Crecimiento de películas delgadas en condiciones de ultra alto vacío para su aplicación en dispositivos electrónicos
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URI: http://hdl.handle.net/10317/9402Share
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Ramos Solano, EduardoDirector/a
Abad López, JoséCenter
Escuela Técnica Superior de Ingeniería IndustrialUniversity
Universidad Politécnica de CartagenaDepartment
Física Aplicada y Tecnología NavalKnowledge Area
Física AplicadaPublication date
2021-05-06Keywords
PhysicsFísica
Abstract
Los objetivos del trabajo son los siguientes: -Crecimiento y caracterización de películas orgánicas e inorgánicas -Inclusión de dichas películas en dispositivos electrónicos como células solares y transistores
Resumen de la Oferta: El trabajo trata sobre el crecimiento de películas delgadas en condiciones de UHV se crecerán tanto películas metálicas (oro y/o aluminio) como películas de materiales orgánicos semiconductores (moléculas pequeñas) para su aplicación en dispositivos electrónicos, como células solares o transistores. Se optimizarán las condiciones de crecimiento de las películas y estas serán caracterizadas mediante diferentes técnicas, como espectroscopía de electrones Auger, difracción de electrones de baja energía, microscopía túnel de barrido, difracción de rayos X y microscopía electrónica de barrido, entre otras. Finalmente estas películas se incorporaran a dispositivos electrónicos.
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